Alasan 1: Dapat melindungi lensa fokus dari polusi uap logam dan percikan tetesan cairan
Gas pelindung dapat melindungi lensa pemfokus mesin las laser dari polusi uap logam dan cipratan tetesan cairan, terutama selama pengelasan daya tinggi di mana material yang dikeluarkan menjadi sangat kuat, sehingga melindungi lensa sangatlah penting.
Alasan 2: Gas pelindung sangat efektif dalam menghilangkan perisai plasma yang dihasilkan oleh pengelasan laser berdaya tinggi
Uap logam menyerap sinar laser dan terionisasi menjadi awan plasma, dan gas pelindung di sekitar uap logam juga terionisasi karena pemanasan. Jika ada terlalu banyak plasma, sinar laser sampai batas tertentu dikonsumsi oleh plasma. Plasma, sebagai jenis energi kedua, ada di permukaan kerja, yang menyebabkan kedalaman leleh yang lebih dangkal dan permukaan kolam las yang lebih lebar. Dengan meningkatkan tumbukan elektron dengan ion dan atom netral, laju rekombinasi elektron ditingkatkan untuk mengurangi kerapatan elektron dalam plasma. Semakin ringan atom netral, semakin tinggi frekuensi tumbukan dan laju rekombinasi; Di sisi lain, hanya gas pelindung dengan energi ionisasi tinggi yang tidak akan meningkatkan kerapatan elektron karena ionisasi gas itu sendiri.
Alasan 3: Gas pelindung dapat mencegah oksidasi benda kerja selama proses pengelasan
Mesin las laser harus menggunakan gas untuk perlindungan, dan program harus diatur untuk mengeluarkan gas pelindung terlebih dahulu, kemudian laser untuk mencegah oksidasi laser pulsa selama pemrosesan berkelanjutan. Gas inert dapat melindungi kolam cair, dan ketika material tertentu dilas tanpa mempertimbangkan oksidasi permukaan, perlindungan juga dapat diabaikan. Namun, untuk sebagian besar aplikasi, helium, argon, nitrogen, dan gas lainnya sering digunakan sebagai perlindungan untuk mencegah oksidasi benda kerja selama proses pengelasan.